半導体用Oリング

スペリア

半導体プロセスの幅広い分野で、優れた機能を発揮するフッ素ゴムを使用

O-ring-for-semiconductors_th.png

※「スペリア」はイーグル工業株式会社の登録商標です。(商標登録第4429645、4507667号)

製品説明

半導体用Oリング「スペリア」シリーズは、半導体プロセスの幅広い分野で、優れた機能を発揮するフッ素ゴムを使用したOリングです。半導体プロセスで広く求められる耐プラズマ用途には F2815を、耐薬品用途にはFP64をラインナップしています。

特長

耐プラズマ用Oリング「スペリア」F2815

  1. 充填剤を含んでいないため、パーティクルの発生が極限まで抑えることができます。
  2. 高いプラズマ耐性を有したドライプロセスに適した高機能フッ素ゴムを使用しています。


耐薬品用Oリング「スペリア」FP64

  1. パーフロロエラストマー(FFKM)並みの耐酸/耐アルカリ性を有し、重金属を配合していないため、半導体ウェットプロセスに適しています。

特性

半導体用Oリング「スペリア」シリーズは、半導体プロセスで広く求められる耐プラズマ用途に「スペリア」F2815を、耐薬品用途には「スペリア」FP64をラインナップしています。「スペリア」F2815は耐プラズマ性だけでなく、コンタミを抑え、超低アウトガスの特性を有しています。また、「スペリア」FP64は耐アルカリ性だけでなく、低金属抽出の特性を有しています。


superior_table1.jpg

評価試験

プラズマ照射試験

下記試験条件でプラズマを照射し、重量減少率を比較しました。「スペリア」F2815はフッ素ゴムと比較して、重量減少率を約半分に抑えることができます。また、「スペリア」F2815の表面は変化がみられなく、プラズマ照射後にOリングを拭いた後のクリーンチーフは黒くなりません。


試験条件

・RF出力:1800W

・プロセス圧:0.15Torr

・ガス:02/CF4(50:5)

・雰囲気:ラジカル

・時間:10時間


superior_fig5.jpg


プラズマ照射試験後の表面拡大写真


    • superior_fig1.jpg
      FFKM
    • superior_fig2.png
      「スペリア」F2815


プラズマ照射試験後のクリーンチーフ写真


    • superior_fig3.jpg
      FFKM
    • superior_fig4.jpg
      「スペリア」F2815

活用例

  • 半導体製造装置、半導体製造装置用バルブ、半導体製造装置用ロボット、半導体製造装置用真空チャンバー下部、半導体工場、吸気配管、排気配管

お問い合わせ

製品の詳細はイーグル工業株式会社のWebサイトをご覧ください。